Газовые системы и оборудование для микроэлектроникиinfo@npp-uvn.ru+7 499 954-86-55
Плазмохимическое травление
Вакуум и плазма ↗

НПП «УВН» · подбор технологического решения

Плазмохимическое травление

Лабораторные и кластерные системы

01

TCP / CCP

02

Загрузка пластин и кассет

03

Интеграция в чистую зону

Запросить предложение ↗

Стоимость и срок поставки — после согласования комплектации.

ПОДБОР ОБОРУДОВАНИЯ

Конфигурация
под вашу технологию

Плазменная обработка поверхности и травление материалов в вакууме. Выбор TCP или CCP, химии процесса и конструкции камеры зависит от слоя, профиля травления и требуемой селективности. Для новой задачи согласуются образцы и критерии испытаний.

Опции и варианты исполнения

  • Газовая панель процесса
  • Загрузочный шлюз
  • Контроль параметров плазмы
  • Отработка процесса на образцах

Что необходимо для подбора

  • Рабочая среда или материал, входные параметры и требования к результату.
  • Требуемые режимы, производительность и критерии приёмки.
  • Инженерные коммуникации и ограничения площадки.
Скачать каталог ↓

КОНФИГУРАТОР ЗАПРОСА

Соберите исходные
требования

Параметры и опции попадут в заявку. Инженер проверит совместимость и подготовит комплектацию и предложение.

Комплектация и услуги

Отметьте только то, что нужно включить в поставку или работы.

Начнём с вашей задачи

Найдём решение
для вашего процесса.

Расскажите о процессе, рабочем газе, расходе и требованиях к чистоте. Поможем подобрать оборудование и состав инженерных работ.

Обсудить проект